Химия для фотографа > Обрабатывающие растворы, проявители > Кислотно-основная буферность растворов

Кислотно-основная буферность растворов


Скорость многих процессов находится в прямой зави­симости от рН раствора. Одни вещества очень чувстви­тельны к изменению рН раствора на десятую долю значе­ния, другие менее чувствительны.
На рис. 12 показана зависимость проявляющей спо­собности некоторых веществ от величины рН проявляю­щего раствора при постоянной экспозиции и постоянном времени проявления.
Так, парааминофенол и глицин менее чувствительны к изменению рН раствора, чем гидрохинон и пирогаллол. Метол начинает заметно про­являть уже в кислой среде при рН=6, а гидрохинону необходима только щелочная среда с рН не ниже 9,5.
 
Кривые зависимости опти­ческой плотности изображения от величины рН проявляющего рас­твора
 
Рис. 12. Кривые зависимости опти­ческой плотности изображения от величины рН проявляющего рас­твора: 1 — метол; 2 — пирогал­лол; 3 — гидрохинон; 4 — пара­аминофенол; 5 —глицин; 6— парафенилендиамин
 
Из-за того, что скорости проявления сильно зависят от изменения рН раствора, предпринимается ряд мер для поддержания постоянства ще­лочности раствора.
В   процессе   проявления выделяется кислота, которую нейтрализует   щелочь.   Чем большее количество кислоты может быть нейтрализовано щелочью раствора без замет­ного изменения общей щелочности проявителя, тем боль­шей кислотно-основной   буферной   ем­костью обладает система в целом. Поэтому исполь­зуются   растворы,   имеющие   высокую   буферную   емкость.
Буферная емкость зависит от присутствия в растворе двух компонент, одна из которых может соединяться с ионами водорода, а другая — диссоциировать с образо­ванием ионов водорода, тем самым поддерживая на по­стоянном уровне концентрацию водородных , ионов (на­пример, бура и борная кислота).
Чтобы проявляющий раствор с самого начала работал в области большой буферности, в него добавляют слабую кислоту в количестве, эквивалентном 20% введенной в него щелочи.
Чем меньше буферная емкость проявляющего раствора, тем ниже рН в реакционном слое у поверхности проявляю­щегося кристалла и тем медленнее идет проявление.
Буферную емкость можно повысить также за счет увеличения концентрации вещества, определяющего рН системы.